真空燒結爐首要用于半導體元器件及電力整流器件的燒結工藝，可進行真空燒結，氣體維護燒結及常規(guī)燒結。是半導體專用設備系列中一種新穎的工藝配備，它規(guī)劃構思新穎，操作方便，結構緊湊，在一臺設備上可完結多個工藝流程。亦可用于其他領域內的真空熱處理，真空釬焊等工藝。
真空燒結爐的運用必備技巧
高真空燒結爐是在抽真空后充氫氣維護狀態(tài)下，利用中頻感應加熱的原理，使處于線圈內的鎢坩堝產生高溫，通過熱輻射傳導到工作上，適用于科研、軍工單位對難熔合金如鎢、鉬及其合金的粉末成型燒結。裝置電爐的場所應符合真空衛(wèi)生的要求，周圍的空氣應清潔和干燥，并有良好的通風條件，工作場地不易揚起灰塵等。
真空燒結爐的日常運用技巧：
1、檢查控制柜中所有部件及配件是否完備、完好。
2、控制柜裝置在相應的地基上，并固定。
3、安照接線圖，并參考電氣原理圖，接通外接主回路及控制回路，并可靠接地，保證接線無誤。
4、檢查電器可動部分應活動自如，無卡死現(xiàn)象。
5、絕緣電阻應不低于2兆歐姆。
6、真空電爐各閥門必須在關閉方位。
7、控制電源開關放在關位。
8、手動調壓旋鈕逆時針旋動頭。
9、報警鈕放在開位。
10、按平面圖完結設備的循環(huán)冷卻水聯(lián)接，建議用戶在設備總進出水管處再接入一備用水（可用自來水），避免循環(huán)水有毛病或斷電導致密封圈燒壞。